拉奇纳米镀膜-镀膜设备厂家-镀膜设备

气相沉积是一种在基体表面形成功能膜层的技术，它是利用物质在气相中产生的物理或(及)化学反应而在产品表面沉积单层或多层的、单质或化合物的膜层，从而使产品表面获得所需的各种优---能。

气相沉积作为一种表面镀膜方法，其基本步骤有需镀物料气相化->;输运->;沉积。它的主要特点在于不管原来需镀物料是固体、液体或气体，在输运时都要转化成气相形态进行迁移，终到达工件表面沉积凝聚成固相薄膜。

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，玻璃镀膜设备，mbe分子束外延，pld激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。 

真空镀膜机工作的环境要求：    

真空镀膜设备要在真空条件下工作，因此该设备要满足真空对环境的要求。真空对环境的要求，一般包括真空设备对所处实验室（或车间）的温度、空气中的微粒等周围环境的要求，和对处于真空状态或真空中的零件或表面要求两个方面。