借助一种惰性气体的辉光放电使金属或合金蒸汽离子化。离子镀包括镀膜材料（如tin，tic）的受热、蒸发、沉积过程。
蒸发的镀膜材料原子在经过辉光区时，一小部分发生电离，并在电场的作用下飞向工件，以几千电子伏的能量射到工件表面，可以打入基体约几纳米的---，从而---提高了涂层的结合力，电子纳米镀膜设备，而未经电离的蒸发材料原子直接在工件上沉积成膜。惰性气体离子与镀膜材料离子在工件表面上发生的溅射，还可以清除工件表面的污染物，从而---结合力。
一个真正的单层，即大面积石墨烯薄膜覆盖在大面积铜箔上。改进了化学气相沉积(cvd)生长方法，纳米镀膜设备，消除了石墨烯生长在铜箔上的所有碳杂质。这种均匀“”的单层单晶石墨烯有望被用作分辨率透射电镜成像和光学设备的超薄支撑材料。也可作为一种合适的石墨烯，以实现非常均匀的功能化，这将促使推动许多其他应用，---是用于各种类型的传感器。
总之，化学气相沉积就是，饰品纳米镀膜设备，利用气态物质在固体表面上进行化学反应，生成固态沉积物的过程。其过程如下：
（1）反应气体向工件表面扩散并吸附。
（2）吸附于工件表面的各种物质发生表面化学反应。
（3）生成物质点---成晶核并长大。
（4）表面化学反应中产生的气体产物脱离工件表面返回气相。
（5）沉积层与基体的界面发生元素的相互扩散，而形成镀层。
cvd法是，将工件置于有氢气保护的炉内，加热到800℃以上高温，向炉内通入反应气体，使之在炉内热解，化合成新的化合物沉积在工件表面。在模具的应用中，其覆膜厚度一般为6-10μm。
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