纳米镀膜设备-新北纳米镀膜设备-东莞拉奇纳米镀膜

（1）化学气相沉积（cvd）反应温度一般在900~1200℃，中温cvd例如mocvd（金属有机化合物化学气相沉积），反应温度在500~800℃。若通过气相反应的能量，还可把反应温度降低。

“辅助”cvd的工艺较多，主要有：

电子辅助cvd（eacvd）（也称为电子束辅助cvd，电子增强cvd，或电子束---cvd），涂层的形成在电子作用下得到改进。

激光辅助cvd（lacvd)，也称为激光cvd或光子辅助cvd，涂层的形成在激光辐照作用下得到改进。

热丝cvd，也称为热cvd，一根热丝放在被镀物件附近进行沉积。

金属有机化合物cvd（mocvd），是在一种有机金属化合物气氛（这种气氛在室温时是稳定的，但在高温下分解）中进行沉积。

镀膜技能在刀具、模具等金属切削加工东西方面的运用。在生活中咱们会看到金黄色的、钴铜色的、黑色的等七杂八色的钻头、铣刀、模具等，纳米镀膜设备，这些即是通过镀膜技能加工后的涂层东西。

（1）金黄色的是在刀具上涂镀了tin、zrn涂层。tin是一代运用广泛的硬质层资料。

（2）黑色的是在切削东西上涂了tic、crn涂层。

（3）钴铜色的是在刀具上镀涂了tialn涂层。

2080年代早期随着等离子体辅助pvd工艺的显露，cvd在工具方面的应用衰落了。但由于这种工艺具有---的渗入特性，金属纳米镀膜设备，其在cvi、ale等领域的工艺中有着---的应用前景，主要用于金属涂层、陶瓷涂层、无机涂层材料。

金属有机化合物cvd（mocvd）工艺被广泛用于电子工业，例如生产ai和gaas膜，当用于生长单晶材料膜时，新北纳米镀膜设备，这种工艺称为金属有机气相外延（mdvpe）。

原子层外延（ale）cvd是一种cvd衍生方法，可以控制膜的成长，现在该工艺已用于生产电荧光膜。