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气相沉积主要分为两大类：

化学气相沉积(，简称cvd)；

物理气相沉积(，简称pvd)。

，人们利用易挥发的液体tici稍加热获得tici气体和nh气体一起导入高温反应室，让这些反应气体分解，再在高温固体表面上进行遵循热力学原理的化学反应，眼镜镀膜设备，生成tin和hci，hci被抽走，tin沉积在固体表面上成硬质固相薄膜。人们把这种通过含有构成薄膜元素的挥发性化合物与气态物质，在固体表面上进行化学反应，且生成非挥发性固态沉积物的过程，台湾镀膜设备，称为化学气相沉积(，cvd)。

在真空度较高的环境下，通过加热或高能粒子轰击的方法使源材料以原子、分子或离子的形式逸出沉积物粒子，并且逸出的粒子在基片上沉积形成薄膜的技术。.pvd大家族里主要有三位成员：真空蒸发沉积技术（蒸镀）；溅射沉积技术；离化pvd技术。

蒸镀是在真空环境下，以各种加热方式赋予待蒸发源材料以热量，使源材料物质获得所需的蒸汽压而实现蒸发，所发射的气相蒸发物质在具有适当温度的基片上不断沉积而形成薄膜的沉积技术。