真空镀膜设备-东莞拉奇纳米镀膜-金属配件真空镀膜设备

溅射（或阴极喷涂）和蒸发是用于薄膜沉积的常用的pvd方法。

在pvd技术中，金属配件真空镀膜设备，释放或碰撞的热物理过程将要沉积的材料（目标）转化为原子粒子，然后在真空环境中在气态等离子体条件下将原子粒子定向到基材，真空镀膜设备，通过冷凝或化学反应生成物理涂层。投射原子的积累。该技术的结果是，要沉积的材料类型具有更高的灵活性，并且可以---地控制沉积膜的成分。连接到高压电源和真空室的两个电极构成了pvd反应器。

薄膜(比如铱和铂薄膜)之所以引起人们的兴趣是因为它们具有---的性能 、高的电导率 、很强的催化活性以及---的稳定性等 。这些性能使得薄膜在电极材料 、微电子 、固态燃料电池和气敏元件等许多领域存在广泛的应用。

在cvd处理过程中，尺寸变形小的材料是硬质合金及含cr高的不锈钢系合金；冲压加工领域使用的模具材料主要限于合金工具钢、冷作模具钢（cr12mov）、硬质合金等，其中快冷淬透钢，由于快冷时容易产生翘曲、扭曲等变形，所以不宜进行cvd处理；而高速钢是热处理膨胀较大的钢种，使用时必须充分估计其膨胀变形量。