




化学气相沉积的特点
化学气相沉积工艺是,将加热的模具暴露在发生反应的混合气氛(真空度≤1pa)中,玻璃纳米镀膜设备,使气体与模具表面发生反应,在模具表面上生成一层薄的固相沉积物,如金属碳化物、氮化物、硼化物等。这里有两个关键因素:
一是作为初始混合气体气相与基体固相界面的作用,也就是说,各种初始气体之间在界面上的反应来产生沉积,或是通过气相的一个组分与基体表面之间的反应来产生沉积。
二是沉积反应必须在一定的能量条件下进行。一般情况下,产生气相沉积的化学反应必须有足够高的温度作为条件,在有些情况下,可以采用等离子体或激光辅助作为条件,降低沉积反应的温度。
镀膜机工艺在装饰品方面的运用跟着经济的开展和生活水平的进步,大家喜爱将手表壳、表带、服饰、灯饰、眼镜架、室表里装饰件、五金箱包、手机壳、手机视屏、卫生洁具、食品包装等装饰品精饰得五光十色。
镀膜技能在飞机防护涂层方面的运用飞机的钛合金紧固件,原来选用电镀办法镀镉。但在镀镉中含有氢,所以在飞翔进程中,遭到---、海水的腐蚀,镀层上简单发生镉脆,甚至导致---。1964年,选用离子镀办法在钛合金紧固件上镀铝,纳米镀膜设备,处理了飞机零件的镉脆疑问。在离子镀技能中,因为给工件施加负偏压,硅胶纳米镀膜设备,能够构成伪分散层、细化膜层安排,因而能够---进步膜层的耐腐蚀功能。
(1)化学气相沉积(cvd)反应温度一般在900~1200℃,中温cvd例如mocvd(金属有机化合物化学气相沉积),反应温度在500~800℃。若通过气相反应的能量,金属纳米镀膜设备,还可把反应温度降低。
“辅助”cvd的工艺较多,主要有:
电子辅助cvd(eacvd)(也称为电子束辅助cvd,电子增强cvd,或电子束---cvd),涂层的形成在电子作用下得到改进。
激光辅助cvd(lacvd),也称为激光cvd或光子辅助cvd,涂层的形成在激光辐照作用下得到改进。
热丝cvd,也称为热cvd,一根热丝放在被镀物件附近进行沉积。
金属有机化合物cvd(mocvd),是在一种有机金属化合物气氛(这种气氛在室温时是稳定的,但在高温下分解)中进行沉积。

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