




气相沉积主要分为两大类:
化学气相沉积(,简称cvd);
物理气相沉积(,简称pvd)。
,玻璃纳米镀膜设备,人们利用易挥发的液体tici稍加热获得tici气体和nh气体一起导入高温反应室,让这些反应气体分解,再在高温固体表面上进行遵循热力学原理的化学反应,纳米镀膜设备,生成tin和hci,hci被抽走,tin沉积在固体表面上成硬质固相薄膜。人们把这种通过含有构成薄膜元素的挥发性化合物与气态物质,汽车配件纳米镀膜设备,在固体表面上进行化学反应,且生成非挥发性固态沉积物的过程,称为化学气相沉积(,cvd)。
离子镀,是在真空条件下,五金纳米镀膜设备,利用气体放电使气体或被蒸发物质离子化,在气体离子或蒸发物质离子轰击作用下,把蒸发物质或其反应物蒸镀在工件上。离子镀把辉光放电、等离子技术与真空蒸镀技术结合在一起,不仅明显地提高了镀层的各种性能,而且,---扩充了镀膜技术的应用范围。
离子镀除兼有真空溅射的优点外,还具有膜层的附着力强、绕射性好、可镀材料广泛等优点。例如,利用离子镀技术可以在金属、塑料、陶瓷、玻璃、纸张等非金属材料上,涂覆具有不同性能的单一镀层、合金镀层、化合物镀层及各种复合镀层,而且沉积速度快(可达755m/min),镀前清洗工序简单,对环境无污染,因此,近年来在---得到了迅速的发展。
真空镀膜机工艺在光学仪器中的运用大家了解的光学仪器有望远镜、显微镜、照相机、测距仪,以及平时生活用品中的镜子、眼镜、放大镜等,它们都离不开镀膜技能,镀制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等几种。
镀膜机工艺在集成电路制造中的运用,镀膜机晶体管路中的保护层(sio2、si3n4)、电极管线(多晶硅、铜及其合金)等多是选用cvd技能、pvcd技能、真空蒸腾金属技能、磁控溅射技能和射频溅射技能。可见气相堆积术制备集成电路的---技能之一。
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