物理气相沉积（pvd）是一项众所周知的技术，广泛应用于薄膜沉积，涉及许多方面，包括摩擦学性能---，光学增强，视觉/美学提升以及许多其他领域，涉及范围广泛。已经建立的应用程序。加工工具可能是该沉积技术的常见应用之一，有时与化学气相沉积（cvd）结合使用，以延长其使用寿命，减少摩擦并---热性能。然而，cvd工艺在较高的温度下进行，从而在涂层和基材中产生较高的应力，基本上仅在需要使用该工艺沉积所需的涂层时才使用。为了改进此技术，已进行了多项研究，以优化pvd技术，方法是增加等离子体电离，减少暗区（反应器中没有沉积物的区域），---靶材的使用，提高原子轰击效率，甚至提高沉积速率并优化气体选择。
采用化学气相沉积处理时，应注意以下问题：
（1）要考虑模具锐角部分的凸起变形
由于涂层与基体的线胀系数不同，模具棱角处容易产生应力集中，基材会被挤出形成凸起。可以采取的解决方法是：将锐角处加工成圆弧状，或是估计凸起变形量的大小，预先加工成锥形。
（2）cvd沉积温度高而带来的尺寸和形状变形
其变形程度取决于所选用的材料、形状、沉积温度、涂层厚度以及预备热处理等。
在cvd处理过程中，尺寸变形小的材料是硬质合金及含cr高的不锈钢系合金；冲压加工领域使用的模具材料主要限于合金工具钢、冷作模具钢（cr12mov）、硬质合金等，其中快冷淬透钢，由于快冷时容易产生翘曲、扭曲等变形，所以不宜进行cvd处理；而高速钢是热处理膨胀较大的钢种，使用时必须充分估计其膨胀变形量。
物理气相沉积（pvd）工艺已经有100多年的历史了，等离子辅助pvd大约在80年前就申请了---。术语“物理气相沉积”仅在60年代出现。当时，需要通过发展众所周知的技术来发展真空镀膜工艺，例如溅射，真空，等离子体技术，磁场，气体化学，热蒸发，弓形和电源控制，如powell的书中详细描述的。在过去的30年中，塑料镀膜设备，等离子辅助pvd（papvd）被分为几种不同的电源技术，眼镜镀膜设备，例如直流（dc）二极管，镀膜设备，三极管，射频（rf），塑胶镀膜设备，脉冲等离子体，离子束辅助涂层等。，该过程在基本理解上存在一些困难，因此引入了---的更改以提供好处，例如从涂层到基材的---附着力，结构控制以及低温下的材料沉积。
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