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真空镀膜加工是利用化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，真空微米镀膜多少钱，借助气相作用或基体表面上的化学反应，常平真空微米镀膜，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有cvd和pvd两者特点的等离子化学气相沉积等。

在电子学方面真空镀膜更占有较为重要的---。各种规模的继承电路。包括存贮器、运算器、告诉逻辑元件等都要采用导电膜、绝缘膜和保护膜。作为制备电路的掩膜则用到铬膜。磁带、磁盘、半导体激光器，约瑟夫逊器件、电荷耦合器件( ccd )也都甬道各种薄膜。

从材料功能分，镀膜材料可分为：

a.光介质材料：起传---线的作用。这些材料以折射、反射和透射的方式改变光线的方向、强度和相位，使光线按预定要求传输，也可吸收或透过一定波长范围的光线而调整光谱成份。

b.光功能材料：这种材料在外场（力、声、热、电、磁和光）的作用下，真空微米镀膜报价，光学性质会发生变化，因此可作为探测、保护和能量转换的材料（如agcl2，wo3等）。