聚对二---技术-道滘聚对二----拉奇纳米镀膜

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    2024-5-22

唐锦仪
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真空镀膜加工的科学蒸镀

在真空蒸镀时,气态粒子是由放于蒸发源中的蒸发材料产生的,而蒸发源的加热可以采用电阻法、高频感应法、电子束轰击、激光蒸发或放电法等。图1-1是真空蒸镀设备和一些蒸发源的简图。该真空蒸镀设备的工作室为金属钟罩,并备有手动的或液压的提升机构。底盘下面是由机械泵和扩散泵组成的抽气系统,通过真空阀门对工作室抽真空。



       真空镀膜涂层附着力的影响因素:

       首先一大因素就是材质,有些材质不适合做真空镀膜涂层,例如锌合金、铝和裸铜等,聚对二---技术,直接做真空镀膜会出现起泡、掉摸等附着力差的现象。

       其次附着力受产品表面的洁净度影响,聚对二---厂哪里近,如果产品表面的脏污、杂质或者披锋等没有清理干净,真空镀膜涂层就会附着在这些杂质上,一旦杂质掉落,道滘聚对二---,涂层也随之剥落,我们称之为假附着。

       第三个影响因素就是基材的耐腐蚀性能,真空涂层虽细腻致密,但是基材缺陷并不能完全覆盖,基材腐蚀一般从缺陷处开始,基材一旦被腐蚀,膜层就成了中空状态或者直接随之剥落;第四个影响因素就是工艺的优良程度,沉积的温度、偏压等是否---,沉积的膜层应力是否过大等等;产品在非常特殊的环境下使用,而这种环境又超出真空镀膜涂层能承受的范围。





真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,它是以真空技术为基础,利用物理或化学方法,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。

光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。



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