




真空镀膜技术一般分为两大类,即物理气相堆积(pvd)技术和化学气相堆积(cvd)技术。
物理气相堆积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀细密、薄膜厚度可控性好、运用的靶材广泛、溅射规模宽、可堆积厚膜、可制取成分安稳的合金膜和重复性好等长处。一同,物理气相堆积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下,因而可作为z终的处理工艺用于高速钢和硬质合金类的薄膜刀具上。
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,它是以真空技术为基础,利用物理或化学方法,硅胶parylene涂层,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。
采用pvd真空镀膜处理,塑料parylene涂层,清除镀膜室内的尘埃,设置洁净度高的工作间,小榄parylene涂层,保持室内高度清洁,是镀膜工艺对环境的基本要求。在空气湿度大的地方,除镀前要对基片、真空室各部件仔细清洗外,还要进行烘烤除气。为了防止油进入真空室,应注意油扩散泵返油,橡胶parylene涂层,对高热能的扩散泵必须采取挡油措施。
真空镀膜加工即真空电镀是一种物理沉积现象。即在真空状态入气,气撞击靶材,靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。其特点就是保色久,耐磨度好,但是由于其对环境要求较严格而且工艺相对比较复杂成本方面比一般电镀要高。在真空镀膜加工的上下表面都会发生反射,这样两束光相遇的时候,其光程差,其中n0是膜的折射率,d是膜的厚度。
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