拉奇纳米-parylene-从化parylene

真空镀膜的方法材料：

(2)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3pa而使蒸气分子飞到基体表面，电子parylene，凝结而成薄膜。

(3)化学气相沉积：通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物，获得沉积薄膜的过程。

光学镀膜方法材料

(1)---镁：无色四方晶系粉末，纯度高，用其制备光学镀膜可提高透过率，不出崩点。

(2)二氧化硅：无色透明晶体，熔点高，硬度大，化学稳定性好。纯度高，用其制备高si02镀膜，蒸发状态好，不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。

       真空镀膜涂层附着力的影响因素：

       首先一大因素就是材质，有些材质不适合做真空镀膜涂层，例如锌合金、铝和裸铜等，直接做真空镀膜会出现起泡、掉摸等附着力差的现象。

       其次附着力受产品表面的洁净度影响，如果产品表面的脏污、杂质或者披锋等没有清理干净，塑料parylene，真空镀膜涂层就会附着在这些杂质上，一旦杂质掉落，parylene，涂层也随之剥落，我们称之为假附着。

       第三个影响因素就是基材的耐腐蚀性能，真空涂层虽细腻致密，但是基材缺陷并不能完全覆盖，基材腐蚀一般从缺陷处开始，基材一旦被腐蚀，膜层就成了中空状态或者直接随之剥落；第四个影响因素就是工艺的优良程度，沉积的温度、偏压等是否---，沉积的膜层应力是否过大等等；产品在非常特殊的环境下使用，而这种环境又超出真空镀膜涂层能承受的范围。