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真空pvd镀膜基本步骤 

 前处理工艺褪膜、喷砂、抛光、钝化、清洗、装夹 镀膜工艺抽真空、加热烘烤、漏率测试、轰击清洗、镀膜、冷却出炉 后处理工艺 

清洗：---镀膜前产品表面的清洁，越新鲜的表面，越能---镀膜；

抽真空：将真空室内的残余气体抽走加热烘烤：炉体和工件同时加热，马达真空镀膜厂，加速残余气体的释放压升率测试：测试炉体的漏气率和放气率轰击清洗：去除工件表面的杂志，马达真空镀膜多少钱，露出新鲜表面镀膜：沉积膜层冷却：避免工件氧化变色

物理气相沉积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。同时，物理气相沉积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下，因此可作为终的处理工艺用于高速钢和硬质合金类的薄膜刀具上。由于采用物理气相沉积工艺可大幅度提高刀具的切削性能，人们在竞相开发、高---性设备的同时，也对其应用领域的扩展，尤其是在高速钢、硬质合金和陶瓷类刀具中的应用进行了深入的研究。