




真空电镀的简单作用过程:真空电镀接通蒸发源交流电源,真空电镀蒸发料粒子熔化蒸发,花都真空微米镀膜,真空电镀进入辉光放电区并被电离。真空电镀带正电荷的蒸发料离子,阴极吸引下,随同离子一同冲向工件,真空电镀当抛镀于工件表面上的蒸发料离子逾越溅失离子的数量时,真空电镀则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。
真空电镀工艺则有所不同,真空电镀是真空罩内进行的但这时镀膜过程是以电荷传递的形式来实现的,真空电镀蒸发料的粒子作为带正电荷的高能离子在高压阴极(即工件)吸引下,真空电镀以---的速度注入到工件表面。

从材料功能分,镀膜材料可分为:
a.光介质材料:起传---线的作用。这些材料以折射、反射和透射的方式改变光线的方向、强度和相位,使光线按预定要求传输,也可吸收或透过一定波长范围的光线而调整光谱成份。
b.光功能材料:这种材料在外场(力、声、热、电、磁和光)的作用下,光学性质会发生变化,因此可作为探测、保护和能量转换的材料(如agcl2,显示屏真空微米镀膜,wo3等)。

真空镀膜对塑胶基材的要求:很多用于化妆品包材的塑胶都适合采用真空镀膜工艺进行表面装饰化,比如:abs、as、pp、亚克力、pet、petg等。
镀膜有许多优点,如设备与工艺相对比较简单,即可沉积非常纯净的膜层,又可制备具有特定结构和性质的膜层等等,真空微米镀膜,仍然是当今非常重要的镀膜技术。
为了避免蒸发源材料在镀膜材料蒸发时也同时蒸发,影响薄膜的纯度,一般应选择镀膜材料的温度到达蒸发温度时,蒸发源材料的蒸气压低于10-6pa的材料做蒸发源。

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