




电阻蒸发源蒸镀法:
电阻加热蒸发法就是采用钨、钼等高熔点金属,做成适当形状的蒸发源,其上装入待蒸发材料,让电流通过,对蒸发材料进行直接加热蒸发,或者把待蒸发材料放入坩锅中进行间接加热蒸发。
优点:
利用电阻加热器加热蒸发的镀膜设备构造简单、造价便宜、使用---,可用于熔点不太高的材料的蒸发镀膜,尤其适用于对膜层要求不太高的大批量的生产中。
真空镀膜加工即真空电镀是一种物理沉积现象。即在真空状态入气,气撞击靶材,靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。其特点就是保色久,耐磨度好,但是由于其对环境要求较严格而且工艺相对比较复杂成本方面比一般电镀要高。而水电镀:水电镀一般是指挂镀。
目前,真空微米镀膜,薄膜制程技术广泛应用于半导体工业及精密机械上,由于利用薄膜制程技术所生产的产品具有---附加价值,使薄膜制程技术与薄膜材料被广泛应用于研究和实际,同时带来镀膜技术的迅速发展。通常,硅胶真空微米镀膜,镀膜方法主要包括离子镀膜法、磁控溅镀、真空蒸发法、化学气相沉积法等。然而,真空微米镀膜,随着集成电路的密集及微型化,精密机械的精度提升,对于镀膜厚度要求愈渐严苛。
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