真空镀膜涂层附着力的影响因素：
首先一大因素就是材质，有些材质不适合做真空镀膜涂层，例如锌合金、铝和裸铜等，直接做真空镀膜会出现起泡、掉摸等附着力差的现象。
其次附着力受产品表面的洁净度影响，如果产品表面的脏污、杂质或者披锋等没有清理干净，真空镀膜涂层就会附着在这些杂质上，一旦杂质掉落，涂层也随之剥落，我们称之为假附着。
第三个影响因素就是基材的耐腐蚀性能，真空涂层虽细腻致密，但是基材缺陷并不能完全覆盖，基材腐蚀一般从缺陷处开始，基材一旦被腐蚀，膜层就成了中空状态或者直接随之剥落；第四个影响因素就是工艺的优良程度，沉积的温度、偏压等是否---，真空微米镀膜技术，沉积的膜层应力是否过大等等；产品在非常特殊的环境下使用，而这种环境又超出真空镀膜涂层能承受的范围。
pvd真空镀膜原理是什么？
离子镀膜(pvd镀膜)技术，其原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，真空微米镀膜技术---，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。
采用pvd镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、---的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，真空微米镀膜，膜层的寿命更长;同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。
真空镀膜加工的基本技能要求 1、设备中的真空管道、静态密封零部件（法兰、密封圈等）的结构形式，应契合gb/t6070的规则。 2、在低真空和高真空管道上及真空镀膜室上应设备真空丈量规管，分别丈量各部位的真空度。当发现电场对丈量造成搅扰时，应在丈量口处设备电场屏蔽设备。
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