




真空微米镀膜加工过程中的常见故障排除
真空微米镀膜加工工艺流程比较长、工序繁多,发生故障的影响因素会很多。如真空微米镀膜前处理不净、清洗---、电解液成分失调及杂质污染、生产环境---等。pvd镀膜而故障的原因往往存在于以上各影响因素的一两个细节之中。
真空微米镀膜加工在影响产品的五大因素〔操作者、设备、材料、工艺方法及生产环境)中,人是位的。真空微米镀膜故障的发生都与操作工技能和工作责任心有关。真空微米镀膜生产管理人员对操作工指导和---不力,这些在pvd镀膜企业较普遍存在的状况,真空微米镀膜使得故障在所难免。要减少真空微米镀膜生产故障,提高真空微米镀膜从业人员的技能和工作责任心是十分重要的。
真空镀膜的方法很多,计有:(1)真空蒸镀:将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室,真空微米镀膜多少钱,抽空后将膜料加热到高温,使蒸气达到约13.3pa而使蒸气分子飞到基体表面,凝结而成薄膜。(2)阴极溅射镀:将需镀膜的基体放在阴极对面,把惰性气体(如)通入已抽空的室内,保持压强约1.33~13.3pa,然后将阴极接上2000v的直流电源,便激发辉光放电,真空微米镀膜技术,带正电的离子撞击阴极,使其射出原子,溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。(3)化学气相沉积:通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物,获得沉积薄膜的过程。(4)离子镀:实质上离子镀系真空蒸镀和阴极溅射镀的有机结合,兼有两者的工艺特点。表6-9列出了各种镀膜方法的优缺点。
在光学镀膜材料的应用上,镀膜靶材是技术,真空微米镀膜,通过不同靶材中含有的稀有金属不同而形成不同的光学镀膜材料,普遍应用的稀有金属有---钇、---镨、锗、---锌、---镁、二氧化钛、氧化锆、钴、、硒等金属。在反射镜的光学材料中普遍用到铜、钼、硅、锗等金属,在输出端和透射光学原件中锗、、---等应用广泛。
随着镀膜技术的不断推广,光学镀膜技术的应用领域也在不断拓宽,这些具有优异物理特性的金属将随着我们生活水平的提高为我们的生活带来更多的精彩。
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