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真空镀膜设备，主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，lh320派瑞林镀膜设备，包括真空离子蒸发，磁控溅射，mbe分子束外延，pld激光溅射沉积等很多种。

真空镀膜机对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来。真空镀膜机是由真空炉体，真空泵，控制柜，派瑞林镀膜设备，真空计，冷却系统等部件组成，真空驴体可选择由不锈钢、碳钢或它们的组合制成的双层水冷结构。

真空镀膜是在原子水平上进行材料生成的技术，镀层的晶料度在10纳米左右，属于纳米材料的范畴。通过对壳内壁真空镀电磁防护膜层，可以---地防止因电磁波辐射而---机使用者造成的危害。真空镀膜技术的研究”，主要解决的是镀膜的工艺问题，包括电阻率、附着力、高温性、膜层表面光亮度以及复杂区域的膜层附着问题。根据工艺要求选择不同规格及类型的镀膜设备，其类型有电阻蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、磁控反应溅射、离子镀、空心阴极离子镀、多弧离子镀等。