真空镀膜加工磁控溅射技术有很多种。每个都有不同的工作原理和应用对象。但有一个共同点：磁场和电子之间的相互作用使电子在靠近目标表面的掩埋螺旋中运行，从而增加电子撞击产生离子的概率。产生的离子在电场的作用下与靶表面发生碰撞，显示屏parylene镀膜，并从靶表面飞溅出去。
在近几十年的发展中，汽车parylene镀膜，永磁体逐渐被使用，南山parylene镀膜，而线圈磁体很少被使用。
目标源可分为平衡源和非平衡源。平衡靶源的涂层均匀，且非平衡靶源的涂层与基材的附着力强。平衡靶源主要用于半导体光学薄膜，非平衡靶源主要用于装饰膜的佩戴。
真空镀膜涂料是真空镀膜技术不可或缺的重要材料之一。它既可以做底漆，又可以做面漆。作为底漆，它可以提高光亮度和镜面反射效果，起到提高铝膜和底材的附着力以及封闭底材等作用。作为面漆，它可以提高镀膜层的耐磨性、耐腐蚀性和耐候性等，还可以使镀膜层着色，使镀件反射出五光十色的金属光泽。可以说，没有真空镀膜涂料，真空镀膜技术就不可能得到发展。
有机化学液相沉积（cvd）。它是以化学变化的方法制做塑料薄膜，基本原理是一定溫度下，电子parylene镀膜，将带有制膜原材料的反映汽体通到基片上并被吸咐，在基片上造成化学变化产生核，接着反映反应物摆脱基片表层持续外扩散产生塑料薄膜。束流沉积镀，融合了离子注入与液相沉积镀膜技术性的正离子表层复合型解决技术性，是一种利用离化的颗粒做为蒸镀原材料，在较为低的基片溫度下，产生具备优良特点塑料薄膜的技术性。
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