




影响磁控溅射真空镀膜机薄膜均匀性的因素有哪些?
磁场不均匀的影响
由于实际的磁控溅射装置中电场和磁场不是处处均匀的,也不是处处正交的,都是空间的函数。写出的三维运动方程表达式是不可解的,至少没有初等函数的解。所以磁场的不均匀性对离子的影响,有机高分子镀膜设备厂商,也即对成膜不均匀性的影响是难以计算的,好的方法就是配合实验具体分析。图1是用中频孪生靶柔性卷绕磁控溅射镀膜装置实验得出的靶磁场均匀性和成膜厚度均匀性的对应关系。
高真空电子束蒸发镀膜机是在高真空条件下,采用电子束轰击材料加热蒸发的方法,在衬底上镀制各种金属、氧化物、导电薄膜、光学薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬膜等;可镀制混合物单层膜、多层膜或掺杂膜;可镀各种高熔点材料。
可根据用户使用要求,选配石英晶体膜厚自动控制及光学膜厚自动控制两种方式, 通过plc 和工控机联合实现对整个镀膜过程的全程自动控制, 包括真空系统、烘烤系统、蒸发过程和膜层厚度的监控功能等,从而提高了工作效率和---产品的一致性和稳定性。
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真空镀膜机过程的清洁度是影响真空镀膜附着力的主要指标之一。因此,为了避免真空污染,有机高分子镀膜设备,设备零件的表面清洗处理是非常重要的。真空镀膜机设备表面处理有四种基本方法
溶剂脱脂
附着在真空设备零件上的油可分为动植物油和矿物油。动植物油可用碱溶液化学法除去,矿物油可用除去。
然而,在实际的清洗设备中,通常使用两种溶剂。
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