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真空镀膜机 真空镀铝是在真空状态下，将铝金属加热熔融至蒸腾，电浆辅助化学气相沉积设备，铝原子凝结在高分子材料外表，构成极薄的铝层。真空镀铝请求基材外表润滑、平坦、厚度均匀;挺度和摩擦系数恰当;外表张力大于38dyn/cm2;热性能好，气相沉积设备，经得起蒸腾源的热辐射和冷凝热的效果;基材含水量低于0.1%。常用的镀铝基材有聚酯(pet)、聚(pp)、聚---(pa)、聚乙烯(pe)、聚(pvc)等薄膜。

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，lh300气相沉积设备，包括真空离子蒸发镀膜机、磁控溅镀膜机射、mbe分子束外延镀膜机和pld激光溅射沉积镀膜机等很多种。真空镀膜机对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，蒸发或溅射出的成膜材料是在一般磁控溅射条件下与待镀工件形成膜的过程。无论是金属、合金、化合物、陶瓷还是有机物，都可以气相沉积各种金属膜和介质膜，不同的材料可以同时气相沉积得到多层膜。