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镀膜材料一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，聚对二---价格，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。

真空镀膜主要利用辉光放电将气离子撞击靶材表面，靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好，但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。

　　真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技能为基础，使用物理或化学办法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技能，为科学研究和实践出产供应薄膜制备的一种新工艺。

真空镀膜加工的基本技能要求

1、设备中的真空管道、静态密封零部件（法兰、密封圈等）的结构形式，应契合gb/t6070的规则。

2、在低真空和高真空管道上及真空镀膜室上应设备真空丈量规管，分别丈量各部位的真空度。当发现电场对丈量造成搅扰时，应在丈量口处设备电场屏蔽设备。

3、假如设备运用的主泵为分散泵时，应在泵的进气口一侧装设有油蒸捕集阱

4、设备的镀膜室应设有观察窗，应设有挡板设备。观察窗应能观察到堆积源的作业情况以及其他关键部位。