pvd真空镀膜原理是什么？
离子镀膜(pvd镀膜)技术，其原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，三乡parylene涂层，在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。
采用pvd镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、---的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长;同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。
真空电镀：真空电镀是一种物理沉积现象。即在真空状态入气，气撞击靶材，靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。其特点就是保色久，耐磨度好，但是由于其对环境要求较严格而且工艺相对比较复杂成本方面比一般电镀要高。而水电镀：水电镀一般是指挂镀。
真空镀膜加工的表面硬度高 化学镀镍层的硬度一般在hv300-600，高的甚至可达到hv700以上，而电镀镍的硬度仅为 hv160-180，金属parylene涂层，显然化学镀镍层的硬度要远大于电镀层的硬度.而其化学镀镍层经过一定的热处理后，其硬度还可以提高，可达hv900以上。
真空镀膜加工都使用那些工艺
电镀：
真空镀膜操作:等待真空镀膜部件上架并装上钨丝，塑料parylene涂层，然后进入炉膛，检查接触是否---，旋转正常，关闭真空镀膜真空室，抽真空。在真空室中，材料的原子与热源隔离，并撞击到镀物体的表面。真空镀膜加工中可以加工出来很多产品
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