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真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果，在薄膜材料上使膜层具有---的阻隔性能， 供优异的电磁屏蔽和导电效果。

真空镀膜技术一般分为物理液相堆积技术和有机化学液相堆积技术两类。物理学液相堆积技术是指在真空泵标准下用各种物理方法将电镀材料挥发成分子、分子结构或弱电解质成正离子，气相沉积技术，立即堆积在基础表层的方式。

镀的基本原理：在真空条件下，金属、金属合金等被蒸发蒸发，然后沉积到基体表面，气相沉积厂家在哪，蒸发法通常采用电阻加热，电子束轰击镀料，气相沉积工厂在哪，使其蒸发成气相，然后沉积到基体表面。在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。

真空镀膜目的是希望减少光的反射，台湾气相沉积，增加透光率，抗紫外线并抑低耀光、鬼影;不同颜色的真空镀膜，也使的成像色彩平衡的不同。