




影响磁控溅射真空镀膜机薄膜均匀性的因素有哪些?
气体不均匀性的影响
一般来说气体不均匀可以由两种情况产生,一种是送气不均匀,另一种就是抽气不均匀。正常抽气情况指的是真空室内的孪生靶两端对称抽气,l5000派瑞林镀膜设备哪有卖,可认为是均匀抽气;而前分子泵关和后分子泵关则是一端抽气,属于不均匀抽气。由于都是均匀送气不均匀抽气,真空室内的气体就不均匀了。很显然前分子泵关只开后分子泵时,气压从前到后逐渐减小,l5000派瑞林镀膜设备哪有订,而后分子泵关只开前分子泵时,气压从后到前逐渐减小。实验得到的膜厚考虑磁场的影响后也正与气压变化相符。
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真空纳米镀膜机的工作原理及操作方法,离子镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空蒸发镀膜机、真空多弧离子镀膜机、真空中频磁控溅射镀膜机、多功能中频磁控溅射多弧复合离子镀膜机、真空光学(电子束蒸发)镀膜机等系列真空镀膜设备,主要思路是分成蒸发和溅射两种。
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真空镀膜机气缸内装有带孔的多层金属膜片,膜片上装有金属或陶瓷环,气缸上装有带循环油泵的喷油环喷嘴,使气流经过时灰尘能被油膜附着。不仅具有---的除尘能力,而且具有---的气体冷却效果。
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