气相沉积设备-拉奇纳米镀膜-h1050气相沉积设备

真空镀膜设备，气相沉积设备，主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，mbe分子束外延，pld激光溅射沉积等很多种。

真空镀膜机对于溅射类镀膜，h1050气相沉积设备，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来。真空镀膜机是由真空炉体，真空泵，控制柜，真空计，冷却系统等部件组成，真空驴体可选择由不锈钢、碳钢或它们的组合制成的双层水冷结构。

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