




影响磁控溅射真空镀膜机薄膜均匀性的因素有哪些?
磁场不均匀的影响
由于实际的磁控溅射装置中电场和磁场不是处处均匀的,也不是处处正交的,都是空间的函数。写出的三维运动方程表达式是不可解的,至少没有初等函数的解。所以磁场的不均匀性对离子的影响,也即对成膜不均匀性的影响是难以计算的,好的方法就是配合实验具体分析。图1是用中频孪生靶柔性卷绕磁控溅射镀膜装置实验得出的靶磁场均匀性和成膜厚度均匀性的对应关系。
真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,手机真空镀膜设备厂家在哪,具有很多种类,包括真空离子蒸发 ,磁控溅射,mbe分子束外延,pld激光溅射沉积等很多种。真空镀膜设备在使用中也会很多问 题,手机真空镀膜设备哪里实惠,比如镀出的产品掉膜。下面我们就来介绍一下真空镀膜设备镀出的产品掉膜原因。
1.产品表面的洁净度不够,离子源清洗气放大时间过长。
2.清洗时是否加了清洗剂,或者更换了清洗剂,手机真空镀膜设备,建议使用纯水先试一下。
3.工艺参数是否变动,手机真空镀膜设备工厂在哪,在膜厚和电流上可进行一些调整。
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气体不均匀性的影响
一般来说气体不均匀可以由两种情况产生,一种是送气不均匀,另一种就是抽气不均匀。正常抽气情况指的是真空室内的孪生靶两端对称抽气,可认为是均匀抽气;而前分子泵关和后分子泵关则是一端抽气,属于不均匀抽气。由于都是均匀送气不均匀抽气,真空室内的气体就不均匀了。很显然前分子泵关只开后分子泵时,气压从前到后逐渐减小,而后分子泵关只开前分子泵时,气压从后到前逐渐减小。实验得到的膜厚考虑磁场的影响后也正与气压变化相符。
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