




影响磁控溅射真空镀膜机薄膜均匀性的因素有哪些?
磁场不均匀的影响
由于实际的磁控溅射装置中电场和磁场不是处处均匀的,也不是处处正交的,都是空间的函数。写出的三维运动方程表达式是不可解的,至少没有初等函数的解。所以磁场的不均匀性对离子的影响,五金纳米镀膜设备,也即对成膜不均匀性的影响是难以计算的,白云五金纳米镀膜设备,好的方法就是配合实验具体分析。图1是用中频孪生靶柔性卷绕磁控溅射镀膜装置实验得出的靶磁场均匀性和成膜厚度均匀性的对应关系。
真空镀膜机具有真空度高、抽速快、基片装卸方便的特点,配备 e 型电子束蒸发源和电阻蒸发源。pid自动控温,具有成膜均匀、放气量小和温度均匀的优点。e 型电子束蒸发、电阻热蒸发源组件(可选配)、样品掩膜挡板系统、真空获得系统及真空测量系统、分子泵真空机组或低温泵真空机组、旋转基片加热台、工作气路、样品传递机构,膜厚控制系统、电控系统、恒温冷却水系统等组成。可选件:膜厚监控仪,恒温制冷水箱。

真空镀膜机镀件怎样除气:
真空状态是支持真空镀膜机运作的环境,---是需要高真空度的设备,通常我们需要达到高真空度,抽气系统的作用是功不可没的。
但除了真空镀膜机抽气系统外,在真空镀膜设备运行的过程中,还有一点就是产品镀件的除气也很重要。
有些产品镀件它本身内部存在着很多的气体、水分等,这些物质都会随着设备加热时被排放到真空室中,降低了真空度,更甚者,五金纳米镀膜设备厂商,有些气体带有毒性成分,直接损害到真空室内部机械结构,造成设备不能正常运作。
另外,正在镀膜过程中,由于工件内气体加热膨胀,容易使已经镀上的膜层裂开,当然这个情况出现的机率视工件本身物理性质有关,像塑料等容易膨胀的,机率就比较高,像金属等硬质的,机率就比较低,但也不能忽视,因此工件的除气是非常---的。
通常我们使用的产品镀件除气方法是烘烤,通过加热把工件内的气体、水分排出,在镀膜前,五金纳米镀膜设备选,抽气的同时,对工件进行加热,当工件内水分和气体由于加热而放出后,随着真空室内的气体一起被真空泵抽出。
针对不同的工件采取不一样的除气措施,有效控制产品镀件内部气体与水分排放,提高镀膜的稳定性和均匀性。
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