金属镀膜设备厂家-广州金属镀膜设备-拉奇纳米镀膜

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    2023-4-17

唐锦仪
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影响磁控溅射真空镀膜机薄膜均匀性的因素有哪些?

气体不均匀性的影响

一般来说气体不均匀可以由两种情况产生,一种是送气不均匀,另一种就是抽气不均匀。正常抽气情况指的是真空室内的孪生靶两端对称抽气,可认为是均匀抽气;而前分子泵关和后分子泵关则是一端抽气,属于不均匀抽气。由于都是均匀送气不均匀抽气,真空室内的气体就不均匀了。很显然前分子泵关只开后分子泵时,气压从前到后逐渐减小,金属镀膜设备销售,而后分子泵关只开前分子泵时,气压从后到前逐渐减小。实验得到的膜厚考虑磁场的影响后也正与气压变化相符。



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