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影响磁控溅射真空镀膜机薄膜均匀性的因素有哪些?

磁场不均匀的影响

由于实际的磁控溅射装置中电场和磁场不是处处均匀的，也不是处处正交的，都是空间的函数。写出的三维运动方程表达式是不可解的，汽车真空镀膜设备，至少没有初等函数的解。所以磁场的不均匀性对离子的影响，也即对成膜不均匀性的影响是难以计算的，好的方法就是配合实验具体分析。图1是用中频孪生靶柔性卷绕磁控溅射镀膜装置实验得出的靶磁场均匀性和成膜厚度均匀性的对应关系。

真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具有很多种类，包括真空离子蒸发 ，磁控溅射，mbe分子束外延，汽车真空镀膜设备工厂，pld激光溅射沉积等很多种。真空镀膜设备在使用中也会很多问 题，比如镀出的产品掉膜。下面我们就来介绍一下真空镀膜设备镀出的产品掉膜原因。

1.产品表面的洁净度不够，离子源清洗气放大时间过长。

2.清洗时是否加了清洗剂，汽车真空镀膜设备报价，或者更换了清洗剂，建议使用纯水先试一下。

3.工艺参数是否变动，在膜厚和电流上可进行一些调整。