




pvd真空镀膜过程非常复杂,由于镀膜原理的不同分为很多种类,仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的pvd真空镀膜,影响均匀性的因素也不尽相同。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。
薄膜均匀性的概念:
1.厚度上的均匀性,也可以理解为粗糙度,纳米镀膜多少钱,在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位,约为100a),纳米镀膜技术,真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是说对于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有任何障碍。
不仅是镀膜应用广泛的设备,多功能真空镀膜机也是在真空环境下应用广泛的设备;真空镀膜机的工作原理各不相同,工艺也会影响其运行方式。负压镀膜机有真空系统,冷却系统,检测系统,镀膜系统;有蒸发镀膜,磁控镀膜,离子式镀膜。
多功能真空镀膜机主要是指需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括真空离子蒸发、磁控溅射、 mbe分子束外延、 pld激光溅射沉积等多种类型。其基本思想分为蒸发和溅射两种。
真空镀膜工艺:为使光学零件能满足在光电仪器及元器件中所需的光学,电学,物理性能,而可以在其表面上镀一层,多层乃百层的薄膜。例如增透膜、反射膜、分光膜、滤光膜、电热膜、保护膜、偏振膜等。光学零件的镀膜主要分物理和化学镀膜两类。由于真空技术和膜系监控技术的发展,较易获得性能稳定,结构复杂的膜层。故在生产中多以真空镀膜法为主。
按照薄膜的使用性能分类,常见的膜层有:增透膜,纳米镀膜,反射膜,分光膜,滤光膜,纳米镀膜厂商,电热膜,导电膜及保护膜等。按照薄膜的结构可以分为单层膜,双层膜及多层膜等。
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