等离子化学气相沉积-化学气相沉积-拉奇纳米

       镀膜方法可以分为气相生成法，氧化法，离子注入法，化学气相沉积，扩散法，电镀法，化学气相沉积技术，涂布法，液相生长法等。气相生成法又可分为物理气相沉积法，化学气相沉积法和放电聚---等。真空蒸发，溅射镀膜和离子镀等通常称为物理气相沉积法，是基本的薄膜制备技术。它们都要求淀积薄膜的空间要有一定的真空度。所以，真空技术是薄膜制作技术的基础，获得并保持所需的真空环境，是镀膜的---条件。

在真空镀膜加工中的说明

五、真空电镀加工的表面硬度高 化学镀镍层的硬度一般在hv300-600，高的甚至可达到hv700以上，而电镀镍的硬度仅为 hv160-180，显然化学镀镍层的硬度要远大于电镀层的硬度.而其化学镀镍层经过一定的热处理后，其硬度还可以提高，等离子化学气相沉积，可达hv900以上。

六、自润滑性好 经合金镀液处理过的金属表面是一种非晶态，即处于基本平面状态，有自润滑性，因此摩擦 系数小，非粘着性好。