




真空镀膜的方法材料:
(2)真空蒸镀:将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室,抽空后将膜料加热到高温,使蒸气达到约13.3pa而使蒸气分子飞到基体表面,凝结而成薄膜。
(3)化学气相沉积:通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物,获得沉积薄膜的过程。
光学镀膜方法材料
(1)---镁:无色四方晶系粉末,纯度高,用其制备光学镀膜可提高透过率,真空镀膜,不出崩点。
(2)二氧化硅:无色透明晶体,熔点高,硬度大,化学稳定性好。纯度高,用其制备高si02镀膜,蒸发状态好,不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。
电阻蒸发源蒸镀法:
电阻加热蒸发法就是采用钨、钼等高熔点金属,做成适当形状的蒸发源,其上装入待蒸发材料,让电流通过,对蒸发材料进行直接加热蒸发,真空镀膜工艺,或者把待蒸发材料放入坩锅中进行间接加热蒸发。
优点:
利用电阻加热器加热蒸发的镀膜设备构造简单、造价便宜、使用---,可用于熔点不太高的材料的蒸发镀膜,尤其适用于对膜层要求不太高的大批量的生产中。
真空镀膜技术的特点:
1、镀覆材料广泛:可作为真空镀蒸发材料有几十种,包括金属、合金和非金属。真空镀膜加工还可以像多层电镀一样,加工出多层结构的复合膜,满足对涂层各种不同性能的需求。
2、真空镀膜技术可以实现不能通过电沉积方法形成镀层的涂覆:如铝、钛、锆等镀层,甚至陶瓷和金刚石涂层,这是十分难能可贵的。
3、真空镀膜---良:真空镀膜厚度远小于电镀层。但涂层的耐摩擦和耐腐蚀性能---。孔隙率低,螺丝真空镀膜,而且无氢脆现象,相对电镀加工而言可以节约大量金属材料。
4、环境效益优异:真空镀膜加工设备简单、占地面积小、生产环境优雅洁净,铝板真空镀膜,无污水排放,不会对环境和操作者造成危害。在注重环境保护和大力推行清洁生产的形势下,真空镀膜技术在许多方面可以取代电镀加工。
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