真空镀膜技能一般分为两大类，即物理气相堆积（pvd）技能和化学气相堆积（cvd）技能。
物理气相堆积技能具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射规模宽、可堆积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。
化学气相堆积技能是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供应基体，纳米镀膜，凭借气相作用或基体外表上的化学反应，纳米镀膜厂家，在基体上制出金属或化合物薄膜的办法，主要包含常压化学气相堆积、低压化学气相堆积和兼有cvd和pvd两者特点的等离子化学气相堆积等。
真空镀膜设备在工业生产中应用广泛，无论是大小产品、金属产品或塑料产品，还是陶瓷、芯片、线路板、玻璃等产品，基本上都需要进行表面处理镀膜。在涂料就方式而言，比较常见的是采用蒸发镀或磁控豺镀或离子镀。
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真空镀膜加工适用于那些地方
眼镜镀膜常用---:二氧化锆(zro?)、二氧化硅(sio?)、ito(添加镜片导电抗紫外线)、ht-100(防水膜，防止老化和氧化)……
镀膜原理:高电压电子将以上几种---汽化，汽车纳米镀膜，均匀分布在镜片外表。
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技能为基础，使用物理或化学办法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技能，为科学研究和实践出产供应薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸腾或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝结并堆积的办法，称为真空镀膜。
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