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真空pvd镀膜基本步骤 

 前处理工艺褪膜、喷砂、抛光、钝化、清洗、装夹 镀膜工艺抽真空、加热烘烤、漏率测试、轰击清洗、镀膜、冷却出炉 后处理工艺 

清洗：---镀膜前产品表面的清洁，越新鲜的表面，越能---镀膜；

抽真空：将真空室内的残余气体抽走加热烘烤：炉体和工件同时加热，加速残余气体的释放压升率测试：测试炉体的漏气率和放气率轰击清洗：去除工件表面的杂志，露出新鲜表面镀膜：沉积膜层冷却：避免工件氧化变色

四种常见的真空镀膜材料

1.氧化物:一氧化硅sio，二氧化硅sio2，二氧化钛tio2，二氧化锆zro2，二氧化铪hfo2，一氧化钛tio，五氧化三钛ti3o5，五氧化二铌nb2o5，五氧化二钽ta2o5，氧化钇y2o3，氧化锌zno等高纯氧化物镀膜材料。

2.---物：---钕nbf3，baf2，---cef3，---镁mgf2，laf3，---钇yf3，---镱ybf3，---铒erf3等高纯---物。

3.其它化合物：---锌zns，电路板防水镀膜价格，---znse，氮化钛tin，碳化硅sic，钛酸---latio3，钛酸钡batio3，钛酸---srtio3，钛酸镨prtio3，cds等真空镀膜材料。

4.金属镀膜材料：高纯铝al，高纯铜cu，高纯钛ti，高纯硅si，高纯金au，高纯银ag，高纯铟in，高纯镁mg，高纯锌zn，厚街电路板防水镀膜，高纯铂pt，电路板防水镀膜加工，高纯锗ge，高纯镍ni，高纯金au，金锗合金auge，金镍合金auni，镍铬合金nicr，钛铝合金tial，铜铟合金cuinga，铜铟硒合金cuingase，锌铝合金znal，铝硅合金alsi等金属镀膜材料。