番禺化学气相沉积-东莞拉奇纳米镀膜-化学气相沉积技术

真空镀中对底涂层的要求：

对镀件与镀膜层有---的接触性能与较高的结合力，热膨胀系数相差小，不起反应，化学气相沉积技术，流平性能好。

具有---的真空性能。底涂层固化后放气量少、热应力小、耐热性能好。

成膜性能好，涂层的致密度、覆盖能力、抗溶剂能力与耐光照能力等性能---。

与面涂层有---的相溶性。由于镀膜层极薄有孔隙，要求底涂层和面涂层的溶剂和稀释剂有---的相溶性。

施涂性能---。流平性能---，有适当的黏度、固化时间短。

真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。

真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，低压化学气相沉积，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，石墨烯化学气相沉积，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。