




真空pvd镀膜基本步骤
前处理工艺褪膜、喷砂、抛光、钝化、清洗、装夹 镀膜工艺抽真空、加热烘烤、漏率测试、轰击清洗、镀膜、冷却出炉 后处理工艺
清洗:---镀膜前产品表面的清洁,越新鲜的表面,越能---镀膜;
抽真空:将真空室内的残余气体抽走加热烘烤:炉体和工件同时加热,加速残余气体的释放压升率测试:测试炉体的漏气率和放气率轰击清洗:去除工件表面的杂志,露出新鲜表面镀膜:沉积膜层冷却:避免工件氧化变色
带钢真空镀膜总的来说仍处在发展的初级阶段,陶瓷电路板镀膜工艺,在带钢表面处理中所占份额目前还远不能与热浸镀、电镀相比。阻碍带钢真空镀膜发展的主要原因是生产率低,成本较高。有效的解决方法是开发研制高速,稳定的高功率蒸发源。
大功率电子枪的开发和使用是带钢真空镀膜中的关键技术。一般的真空蒸发镀膜可以采用电阻加热和感应加热。它的设备较简单,但加热温度和蒸发速率较低。要满足连续式工业化生产钢带真空镀膜的需要,就必须使用加热速度快,熔化温度高的热源。
真空镀用的涂料有哪些?实际生产中如何完善这些涂料应用中的涂装技术?下面对此重点讨论。在装饰性真空镀膜中,电路板镀膜加工,依靠完善的涂料涂装技术,可取得耐磨性强、结合力好、光亮度高的镀层。
1.涂层的作用和要求
装饰性真空镀的涂层一般分为底涂层和面涂层两种。为了满足产品的不同技术要求,可施涂底涂层和面涂层,或在面涂层上再施涂彩色涂层、保护涂层等。这些涂层的主要作用是:
提高膜层的结合力。采用相同的镀膜方法,在塑料基体上施涂底涂层再真空镀膜,陶瓷电路板镀膜厂家,可提高膜层的结合力。
降低镀件表面的粗糙度,提高光亮度。一般镀件表面都存在微观不平整度,不一定厚度涂料的整平性,可以填补镀件表面的缺陷,使镀件表面达镜面平整度。
能保护金属膜层。真空镀膜层一般只有100nm,膜层的耐磨性和抗变色能力较差,电路板镀膜,施涂面涂层后,镀膜层与外界不直接接触,对镀膜层能起保护作用。
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