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化学气相沉积tin

将经清洗、脱脂和氨气还原处理后的模具工件，镀膜设备厂，置于充满h2（体积分数为99.99%）的反应器中，加热到900-1100℃，通入n2（体积分数为99.99%）的同时，新北镀膜设备，并带入气态ticl4（分数不低于99.0%）到反应器中，则在工件表面上发生如下化学反应：

2ticl4（气）+n2（气）+4h2（气）***2tin（固）+8hcl（气）

固态tin沉积在模具表面上形成tin涂层，厚度可达3-10μm，副产品hcl气体则被吸收器排出。工艺参数的控制如下：

（1）氮氢比对tin的影响

一般情况下，氮氢体积比vn2/vh2<1/2时，随着n2的增加，tin沉积速率增大，涂层显微硬度增大；当vn2/vh2≈1/2时，沉积速率和硬度达到值；当vn2/vh2>;1/2时，沉积速率和硬度逐渐下降。当vn2/vh2≈1/2时，所形成的tin涂层均匀致密，塑胶镀膜设备，晶粒细小，硬度，涂层成分接近于化学当量的tin，而且与基体的结合牢固。因此，vn2/vh2要控制在1/2左右。

化学气相沉积（chemical vapor deition，简称cvd），也即化学气相镀或热化学镀或热解镀或燃气镀，属于一种薄膜技术。常见的化学气相沉积工艺包括常压化学气相沉积（npcvd），真空镀膜设备生产厂家，低压化学气相沉积（lpcvd），---压下化学气相沉积（apcvd）。

镀膜机工艺在平板显现器中的运用一切各类平板显现器都要用到各品种型的薄膜，并且---一切类型的平板显现器材都需求运用ito膜，以满意通明电器的请求。能够毫不---的说：没有薄膜技能就没有平板显现器材。