pvd是一种---的真空镀膜工艺，可---耐磨性和耐腐蚀性。它对于功能性应用非常需要，例如工具，装饰件，真空镀膜设备公司，光学增强，模具，镜片镀膜设备，模具和刀片。这些只是各种各样已经建立好的应用程序的几个例子。
此技术中使用的设备维护成本低，并且对环境无害。pvd涂层的好处很多。如pvd可以提供真正---的优势，从而增加产品的---性和价值。沉积技术在机加工过程中具有重要作用。
机加工工具可能是紧急的应用之一，需要一些特性，例如高温下的硬度，高耐磨性，化学稳定性，韧性和刚度。此外，pvd还能够生产具有优异附着力，均匀层，镀膜设备厂，设计结构，渐变特性，可控形态，材料和特性的高度多样性的涂层。
1、真空镀膜工艺在信息存储范畴中的运用薄膜资料作为信息记载于存储介质，有其得天独厚的优势：因为薄膜很薄能够疏忽涡流损耗；磁化回转---敏捷；与膜面平行的双稳态状况简单保持等。为了更精细地记载与存储信息，镀膜设备，必定要选用镀膜技能。
2、真空镀膜工艺在传感器方面的运用在传感器中，多选用那些电气性质相关于物理量、化学量及其变化来说，---敏感的半导体资料。此外，其中大多数运用的是半导体的外表、界面的性质，需求尽量增大其面积，且能工业化、低报价制造、因而选用薄膜的状况许多。
（1）化学气相沉积（cvd）反应温度一般在900~1200℃，中温cvd例如mocvd（金属有机化合物化学气相沉积），反应温度在500~800℃。若通过气相反应的能量，还可把反应温度降低。
（2）常压化学气相沉积（npcvd）或---压下化学气相沉积（apcvd）是在0.01—0.1mpa压力下进行，低压化学气相沉积（lpcvd）则在10-4 mpa下进行。cvd或辉光放电cvd，是低压cvd的一种形式，其优点是可以在较低的基材温度下获得所希望的膜层性能。
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