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真空镀膜设备

工艺特点

（1）广泛应用于金属涂层、陶瓷涂层、无机涂层材料等。

（2）在产量方面，从单件到大批量皆可。

（3）有优势，电子真空镀膜设备，沉积温度低，薄膜成份易控，膜厚与淀积时间成正比，均匀性，重复性好，台阶覆盖性优良。

（4）工具涂层的生产效率不如pvd，具体取决于特定技术要求和辅助工艺。

化学气相沉积曾是真空技术广泛用于陶瓷沉积的种技术，---是对工具涂层更是这样。

镀膜机工艺在太阳能运用方面的运用当需求有用地运用太阳热能时，就要思考选用对太阳光线吸收较多、而对热辐射等所导致的损耗较小的吸收面。太阳光谱的峰值大约在波长为2-20μm之间的红外波段。

若将反应气体导入蒸发空间，便可在工件表面沉积金属化合物涂层，这就是反应性离子镀。由于采用等离子活化，工件只需在较低温度甚至在室温下进行镀膜，完全---零件的尺寸精度和表面粗糙度，橡胶真空镀膜设备，因此，可以安排在工件淬火、回火后即后一道工序进行。如沉积tin或tic时，基体温度可以在150-600℃范围内选择，台湾真空镀膜设备，温度高时涂层的硬度高，与基体的结合力也高。基体温度可根据基体材料及其回火温度选择，如基体为高速钢，可选择560℃，这样，对于经淬火、回火并加工到尺寸的模具加工，无需---基体硬度降低及变形问题。另外，离子镀的沉积速度较其他气相沉积方法快，得到10mm厚的tic或tin涂层，一般只需要几十分钟。