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pvd技术出现于，制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、---的耐磨性和化学稳定性等优点。在高速具领域的成功应用引起了---制造业的高度重视，人们在开发、高---性涂层设备的同时，也在硬质合金、陶瓷类刀具中进行了深入的涂层应用研究。

与cvd工艺相比，pvd工艺处理温度低，在600℃以下时对刀具材料的抗弯强度无影响；薄膜内部应力状态为压应力，光学真空镀膜设备，更适于对硬质合金精密复杂刀具的涂层；pvd工艺对环境无不利影响，符合现代绿色制造的发展方向。

化学气相沉积的特点

化学气相沉积工艺是，将加热的模具暴露在发生反应的混合气氛（真空度≤1pa）中，使气体与模具表面发生反应，在模具表面上生成一层薄的固相沉积物，台湾镀膜设备，如金属碳化物、氮化物、硼化物等。这里有两个关键因素：

一是作为初始混合气体气相与基体固相界面的作用，手机镀膜设备多少钱，也就是说，各种初始气体之间在界面上的反应来产生沉积，或是通过气相的一个组分与基体表面之间的反应来产生沉积。

二是沉积反应必须在一定的能量条件下进行。一般情况下，产生气相沉积的化学反应必须有足够高的温度作为条件，真空镀膜设备公司，在有些情况下，可以采用等离子体或激光辅助作为条件，降低沉积反应的温度。