




射频等离子体增强化学气相沉积(rf-pcvd)
在低压容器的两极上加高频电压则产生射频放电形成等离子体,射频电源通常采用电容耦合或电感耦合方式,其中又可分为电极式和无电极式结构,电极式一般采用平板式或热管式结构,优点是可容纳较多工件,但这种装置中的分解率远低于1%,即等离子体的内能不高。电极式装置设在反应容器外时,主要为感应线圈,如图5,也叫无极环形放电,电子纳米镀膜设备,射频频率为13.56mhz。
关于溅射工艺,在使用磁控溅射工艺的同时施加几种材料的精细层。该真空镀膜工艺的原材料采用靶材的形式。在溅射过程中,将磁控管放置在靶材附近。然后,在真空室中引入惰性气体,该惰性气体通过沿磁控管的方向在靶和基板之间施加高电压而加速,从而从靶中释放出原子尺寸的颗粒。这些粒子是由于气体离子传递的动能而投射出来的,这些离子已经到达目标并到达基板并形成固体薄膜。该技术可以将表面上先前存在的污染物从表面上清除掉,这是通过反转基材和目标之间的电压极性
涂层技术
增强型磁控阴极弧:阴极弧技术是在真空条件下,通过低电压和高电流将靶材离化成离子状态,从而完成薄膜材料的沉积。增强型磁控阴极弧利用电磁场的共同作用,纳米镀膜设备,将靶材表面的电弧加以有效地控制,使材料的离化率更高,薄膜性能优异。
过滤阴极弧:过滤阴极电弧(fca)配有的电磁过滤系统,纳米镀膜设备,可将离子源产生的等离子体中的宏观粒子、离子团过滤干净,经过磁过滤后沉积粒子的离化率为100%,并且可以过滤掉大颗粒,因此制备的薄膜非常致密和平整光滑,具有抗腐蚀性能好,与机体的结合力很强。
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