




镀膜设备
以下是制备的---条件:
在沉积温度下,反应物具有足够的蒸气压,并能以适当的速度被引入反应室;
反应产物除了形成固态薄膜物质外,都必须是挥发性的;
沉积薄膜和基体材料必须具有足够低的蒸气压。
cvd技术是作为涂层的手段而开发的,但不只应用于耐热物质的涂·层,而且应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等,是一个颇具特征的技术领域,其工艺成本具体而定。
离子镀,是在真空条件下,利用气体放电使气体或被蒸发物质离子化,在气体离子或蒸发物质离子轰击作用下,把蒸发物质或其反应物蒸镀在工件上。离子镀把辉光放电、等离子技术与真空蒸镀技术结合在一起,不仅明显地提高了镀层的各种性能,塑胶镀膜设备,而且,---扩充了镀膜技术的应用范围。
离子镀除兼有真空溅射的优点外,还具有膜层的附着力强、绕射性好、可镀材料广泛等优点。例如,利用离子镀技术可以在金属、塑料、陶瓷、玻璃、纸张等非金属材料上,涂覆具有不同性能的单一镀层、合金镀层、化合物镀层及各种复合镀层,而且沉积速度快(可达755m/min),镀膜设备,镀前清洗工序简单,对环境无污染,因此,车灯镀膜设备,近年来在---得到了迅速的发展。
薄膜(比如铱和铂薄膜)之所以引起人们的兴趣是因为它们具有---的性能 、高的电导率 、很强的催化活性以及---的稳定性等 。这些性能使得薄膜在电极材料 、微电子 、固态燃料电池和气敏元件等许多领域存在广泛的应用。
在cvd处理过程中,尺寸变形小的材料是硬质合金及含cr高的不锈钢系合金;冲压加工领域使用的模具材料主要限于合金工具钢、冷作模具钢(cr12mov)、硬质合金等,其中快冷淬透钢,由于快冷时容易产生翘曲、扭曲等变形,所以不宜进行cvd处理;而高速钢是热处理膨胀较大的钢种,使用时必须充分估计其膨胀变形量。
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