化学气相沉积tin
将经清洗、脱脂和氨气还原处理后的模具工件，置于充满h2（体积分数为99.99%）的反应器中，加热到900-1100℃，通入n2（体积分数为99.99%）的同时，并带入气态ticl4（分数不低于99.0%）到反应器中，则在工件表面上发生如下化学反应：
2ticl4（气）+n2（气）+4h2（气）***2tin（固）+8hcl（气）
固态tin沉积在模具表面上形成tin涂层，厚度可达3-10μm，副产品hcl气体则被吸收器排出。工艺参数的控制如下：
（1）氮氢比对tin的影响
一般情况下，氮氢体积比vn2/vh2<1/2时，五金配件纳米镀膜设备，随着n2的增加，tin沉积速率增大，涂层显微硬度增大；当vn2/vh2≈1/2时，led纳米镀膜设备，沉积速率和硬度达到值；当vn2/vh2>;1/2时，沉积速率和硬度逐渐下降。当vn2/vh2≈1/2时，所形成的tin涂层均匀致密，晶粒细小，金属纳米镀膜设备，硬度，涂层成分接近于化学当量的tin，而且与基体的结合牢固。因此，vn2/vh2要控制在1/2左右。
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，纳米镀膜设备，包括真空离子蒸发，磁控溅射，mbe分子束外延，pld激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
真空镀膜机工作的环境要求：
真空镀膜设备要在真空条件下工作，因此该设备要满足真空对环境的要求。真空对环境的要求，一般包括真空设备对所处实验室（或车间）的温度、空气中的微粒等周围环境的要求，和对处于真空状态或真空中的零件或表面要求两个方面。
pvd技术出现于，制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、---的耐磨性和化学稳定性等优点。在高速具领域的成功应用引起了---制造业的高度重视，人们在开发、高---性涂层设备的同时，也在硬质合金、陶瓷类刀具中进行了深入的涂层应用研究。
与cvd工艺相比，pvd工艺处理温度低，在600℃以下时对刀具材料的抗弯强度无影响；薄膜内部应力状态为压应力，更适于对硬质合金精密复杂刀具的涂层；pvd工艺对环境无不利影响，符合现代绿色制造的发展方向。
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